IKR 251 Active Cold Cathode Transmitter Vakum Ölçer

IKR 251 Active Cold Cathode Transmitter Vakum Ölçer

PT R25 500
5,0 (0)

IKR 251 – Active Cold Cathode Transmitter (Vakum Ölçer)

 

Genel Tanım

 

IKR 251, ultra yüksek vakum (UHV) seviyelerinin ölçülmesi için tasarlanmış yüksek hassasiyetli bir Cold Cathode (Penning) aktif vakum transmitteridir.

Ölçüm aralığı 2×10⁻⁹ – 1×10⁻² hPa ile UHV bölgesinden düşük basınç aralığına kadar geniş bir ölçüm spektrumunu kapsar.

Mo (molibden) anot, paslanmaz çelik gövde ve Al₂O₃ seramik feedthrough yapısı, sensöre yüksek sıcaklık ve kimyasal dayanım kazandırır.

Elektronik kartı söküldüğünde 150 °C bake-out yapılabilmesi, bilimsel vakum uygulamalarında büyük avantaj sağlar.

Düşük güç tüketimi (2 W), geniş voltaj aralığı (15–30 V DC) ve 500 metreye kadar kablo desteği sayesinde büyük endüstriyel tesisler ve araştırma altyapıları için son derece uygundur.

 

IKR 251 – Teknik Özellikler Tablosu

 

Özellik

Değer

Çalışma Sıcaklığı

5 – 55 °C

Bake-Out Sıcaklığı (Elektronik sökülmüş)

≤ 150 °C

Bağlantı Flanşı

DN 25 ISO-KF

Anot Malzemesi (Anode)

Molibden (Mo)

Feedthrough

Al₂O₃ (seramik)

Gövde Malzemesi

Paslanmaz çelik

Giriş Voltajı

15 – 30 V DC

Ölçüm Yöntemi

Cold Cathode

Ölçüm Aralığı

2×10⁻⁹ – 1×10⁻² hPa

Ölçüm Doğruluğu

%30 (1×10⁻⁸ – 1×10⁻³ hPa)

Tekrarlanabilirlik

%5

Çıkış Sinyali (Ölçüm Aralığı)

1.8 – 8.5 V

Minimum Yük (Load)

10 kΩ

Güç Tüketimi

2 W

Maksimum Basınç

1×10⁴ hPa

Koruma Elemanı (Seal)

FKM

Özel Özellik

İçten FPM sızdırmaz

Hacim (Volume)

20 cm³

Ağırlık

0.7 g (muhtemelen 700 g olmalı; üretici belgelerinde doğrulama önerilir)

Kablo Uzunluğu (Max.)

500 m

 

Kullanım Alanları

Bilimsel ve Araştırma Uygulamaları

  • UHV (Ultra High Vacuum) deney düzenekleri

  • Yüzey fiziği çalışmaları (XPS, AES, STM, UHV mikroskopi)

  • Parçacık hızlandırıcıları ve beam hatları

Endüstriyel Vakum Sistemleri

  • Vakumlu fırınlar

  • Metalurjik prosesler (sinterleme, brazing)

  • Yüksek vakumlu proses odaları

Yarı İletken Endüstrisi

  • Wafer kaplama sistemleri

  • Plasma odaları

  • İyon implantasyon süreçleri

Kaplama Teknolojileri

  • PVD, CVD, IAD sistemleri

  • İnce film üretim hatları

  • Optik ve dekoratif kaplama sistemleri

 

Sızdırmazlık ve Kaçak Test Sistemleri

  • Helium kaçak test platformları

  • Proses hatlarında vakum seviyesi izleme

 

Avantajlar

  • UHV ölçümü: 2×10⁻⁹ hPa’ya kadar ultra yüksek vakum tespiti

  • Cold Cathode teknolojisi → filament gerektirmez, uzun ömür

  • 150 °C bake-out → yüksek sıcaklık proseslerine uygun

  • Tam metal + seramik izolasyon → maksimum kimyasal ve termal dayanım

  • 500 m uzunluğa kadar kablo kullanılabilir → büyük tesislerde ideal

  • Kompakt, dayanıklı ve düşük bakım ihtiyacı

  • DN 25 ISO-KF → tüm vakum sistemlerine kolay entegrasyon

Popüler Ürünler